近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML宣布：其聯(lián)席總裁兼首席執(zhí)行官皮特·溫寧克 (PeterWennink)及聯(lián)席總裁兼首席技術(shù)官馬丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)將于 2024年4月24日退休。現(xiàn)任首席商務(wù)官兼管理委員會成員克里斯托弗·富凱(ChristopheFouquet)將可能會成為公司的下一任總裁兼 CEO——當(dāng)然，這還需要經(jīng)過2024年4月24日的年度股東大會的最終批準(zhǔn)。

　　溫寧克和范登布林克從2013年接任ASML的總裁，至今已經(jīng)十年。這十年，是ASML成立以來最輝煌的十年。在這個時間點(diǎn)上，回顧一下這家公司從幾近破產(chǎn)的小公司成長為業(yè)界巨頭的過程，是非常有意義的。

　　光刻往事

　　要講ASML的故事，我們有必要先花點(diǎn)篇幅來介紹一些與光刻技術(shù)及光刻機(jī)相關(guān)的背景知識。

　　嚴(yán)格來說，我們將這項(xiàng)技術(shù)稱為“光刻”是有誤導(dǎo)性的。它并不是像很多人想象的那樣用激光在硅片上刻圖，而更像是一種照相曝光和印刷技術(shù)的組合。

　　光刻的英文是Photolithography，從構(gòu)詞上容易看出，這個詞脫胎于Lithography，即“石版印刷術(shù)”。

　　“石版印刷術(shù)”的要害之處在于用化學(xué)的方法在要畫的圖案上涂上油墨，而讓其他地方保持空白。與之類似的，光刻的要害則在于用化學(xué)的方法保留硅片中需要的部分，而去掉其他的部分。所不同的是，在“石版印刷術(shù)”中，人們用的是油脂、樹膠和水來實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，而在光刻過程中，人們則是通過光和光刻膠來實(shí)現(xiàn)。

　　大家知道，芯片的制作過程很大程度上是一個在硅片上雕刻出復(fù)雜電路的過程。仿照石版印刷的思路，可以先在硅片上畫上想要的圖案，并將它保留下來。為了達(dá)到這一點(diǎn)，我們需要先在硅片上涂上一層含有光致敏劑的光刻膠。然后再借用光學(xué)技術(shù)將帶電路圖的掩膜(mask)按比例縮小后投射到硅片上。在光照到的地方，光刻膠就會產(chǎn)生變化，形成一道保護(hù)層。在經(jīng)過曝光之后，就可以用含氯或氟的氣體對硅片進(jìn)行蝕刻(Etching)。這樣，有保護(hù)層的地方的硅就會保留下來，而其余部分的硅則會被侵蝕掉，我們需要的電路就被刻到了硅片上。

　　從歷史上看，光刻技術(shù)出現(xiàn)的時間比芯片還要早。1955年，貝爾實(shí)驗(yàn)室的科學(xué)家卡爾·弗洛希(CarlFrosch)和林肯·德里克(LincolnDerick)發(fā)現(xiàn)了一種對硅擴(kuò)散進(jìn)行表面保護(hù)和選擇性屏蔽的技術(shù)。這種技術(shù)在硅的表面生成凝聚態(tài)的氧化膜，并在其上面蝕刻出窗口圖形。這樣，雜質(zhì)原子就只能夠從窗口擴(kuò)散到硅襯底中去，而覆蓋了氧化膜的硅則會被保護(hù)起來。1957年，物理學(xué)家杰伊·拉特羅普(JayLathrop)和詹姆斯·納爾(JamesNall)通過改造的顯微鏡反射光線，得以將復(fù)雜的電路圖縮小投射到硅片上。在發(fā)表關(guān)于這項(xiàng)技術(shù)的論文時，拉特羅普和納爾將它命名為Photolithography——很顯然，在命名時，他們刻意將這種技術(shù)和古老的石版印刷技術(shù)進(jìn)行了類比。有意思的是，后來拉特羅普曾認(rèn)為這個名字用得并不得當(dāng)，因?yàn)槭聦?shí)上在加工過程中起作用的是“蝕刻”而非印刷，但這個名字是如此生動而深入人心，因而后來一直被沿用了下來。

　　隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起，光刻這種便捷、實(shí)用的硅片加工技術(shù)的需求變得越來越大，于是商業(yè)化的光刻機(jī)就有了它的市場。1961年，美國地球物理公司(GeophsicalCorporationofAmerica，簡稱GCA公司)的子公司大衛(wèi)·曼恩公司(DavidMann)造出了世界上第一臺商用光刻機(jī)——971型光刻機(jī)。雖然從現(xiàn)在的角度看，這臺光刻機(jī)的性能存在著很多不足，但在當(dāng)時，它已經(jīng)可以很好地滿足業(yè)界的需要。因此，包括IBM、德州儀器，以及飛利浦公司在內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造企業(yè)都爭相采購這款光刻機(jī)，GCA也因此獲得了巨大的商業(yè)成功。從此開始，光刻機(jī)本身也形成了一個獨(dú)立的產(chǎn)業(yè)。

　　并不被看好的業(yè)務(wù)

　　回到ASML的故事。作為一家獨(dú)立的公司，ASML成立于1984年。但在它獨(dú)立之前，其前身飛利浦公司的物理實(shí)驗(yàn)室(簡稱Natlab)卻已經(jīng)與光刻機(jī)打了數(shù)十年的交道。

　　1962年底，Natlab的一個考察團(tuán)赴美國參觀了貝爾實(shí)驗(yàn)室。參觀期間，貝爾的研究人員向他們展示了自己開發(fā)的半導(dǎo)體芯片。這些芯片的精巧做工讓考察團(tuán)的成員們驚嘆不已。考察團(tuán)成員、Natlab的主任皮特·哈依曼(PietHaaijman)將一塊芯片帶回了歐洲，并讓實(shí)驗(yàn)室的研究人員好好對其進(jìn)行研究。一位剛?cè)肼毑痪玫难芯繂T弗利茨·克洛斯特曼(FritsKlostermann)在通過顯微鏡詳細(xì)觀察了這枚芯片后，感嘆這個小小的元件簡直就像一只“閃耀著彩虹般光彩的怪異昆蟲”。

　　不久后，克洛斯特曼被調(diào)到了實(shí)驗(yàn)室的光化學(xué)研究小組。這個小組的任務(wù)是為飛利浦開發(fā)光刻機(jī)。1963年5月，飛利浦從大衛(wèi)·曼恩公司重金購入了一臺1080型光刻機(jī)。作為技術(shù)服務(wù)人員，克洛斯特曼對這架機(jī)器進(jìn)行了組裝。通過這番實(shí)踐，他詳細(xì)了解了這款先進(jìn)機(jī)器的結(jié)構(gòu)，也發(fā)現(xiàn)了它的種種缺陷，這些都為他日后開發(fā)光刻機(jī)奠定了基礎(chǔ)。不久之后，他又作為采購人員訪問了美國多家光刻機(jī)廠，對當(dāng)時各種先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)特性進(jìn)行了深入的了解。

　　1966年，克洛斯特曼終于獲準(zhǔn)自行研發(fā)光刻機(jī)。1967年，他就做出了一臺重復(fù)曝光光刻機(jī)的原型機(jī)，并將其在Natlab的展覽會上展出。遺憾的是，當(dāng)時飛利浦的高層并不重視這個重要的研發(fā)成果。此后，Natlab在光刻機(jī)的研發(fā)上還取得了很多成績。但遺憾的是，由于公司的高層對光刻機(jī)項(xiàng)目并不重視，導(dǎo)致這些研究成果沒能很好地轉(zhuǎn)化為現(xiàn)實(shí)的產(chǎn)品，更無法轉(zhuǎn)化為經(jīng)濟(jì)收益。

　　拋棄和新生

　　上世紀(jì)80年代初，飛利浦自身的財務(wù)狀況陷入困境，出于降本增效的考慮，就打算出售其光刻機(jī)等非核心業(yè)務(wù)。起初，飛利浦的計(jì)劃是讓某個大型的光刻機(jī)廠商來“接盤”，但幾個相關(guān)大公司都沒任何興趣。

　　這個時候，一家名不見經(jīng)傳的公司“先進(jìn)半導(dǎo)體材料國際有限公司”(Ad-vancedSemiconductorMaterialsInter-nationalLtd.，簡稱ASM)出現(xiàn)了。ASM的創(chuàng)始人阿瑟·德爾·普拉多(ArthurdelPrado)出生于印尼，其父母都是荷蘭人。“二戰(zhàn)”時，他曾被關(guān)入集中營。戰(zhàn)爭結(jié)束后，他回到荷蘭，并學(xué)習(xí)了經(jīng)濟(jì)學(xué)和化學(xué)。隨后，又赴美在哈佛商學(xué)院進(jìn)行了深造。從哈佛畢業(yè)后，他游歷了硅谷，目睹了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，就回到荷蘭進(jìn)行創(chuàng)業(yè)。在他聽說飛利浦有意出讓光刻機(jī)業(yè)務(wù)后，曾多次找上門試圖尋求合作，然而，飛利浦又豈會看得起這家新創(chuàng)的小公司?所以，這個合作一直沒有成功。

　　1983年，飛利浦的光刻機(jī)業(yè)務(wù)已幾近窮途末路。就在這時，飛利浦科學(xué)與工業(yè)部(S&I)的技術(shù)董事喬治·德·克魯伊夫在報紙上看到了一篇介紹ASM的報道。他發(fā)現(xiàn)，此刻的ASM早已不是當(dāng)初主動上門來求合作的那家小作坊，已經(jīng)成為了一家在美國納斯達(dá)克上市的大公司。于是，他趕緊向公司高層報告，表示可以嘗試和德爾·普拉多談一下。早已為財務(wù)困境煩惱不已的飛利浦高層此時也顧不得矜持，馬上就同意了這個建議。

　　雙方很快決定了合作方案：由飛利浦和德爾·普拉多分別出資210萬美元，成立一家新的公司，雙方在新公司各占50%的股份。這家新的合資公司被命名為“先進(jìn)半導(dǎo)體材料光刻公司”(AdvancedSemiconductorMaterialLithography)，也就是后來大名鼎鼎的光刻巨頭ASML。

　　走過最初的黑暗

　　在ASML成立之初，它的日子非常不好過。這時的半導(dǎo)體芯片江湖已經(jīng)進(jìn)入了一個新的時代。從上世紀(jì)70年代末開始，日本的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始在通產(chǎn)省的產(chǎn)業(yè)政策支持之下迅速發(fā)展，日立、三菱、富士通、東芝、日本電氣等企業(yè)強(qiáng)勢崛起，成為整個芯片行業(yè)內(nèi)舉足輕重的角色。與此同時，尼康、佳能等企業(yè)則開始進(jìn)入光刻機(jī)的生產(chǎn)行列，并憑借質(zhì)優(yōu)價廉將老牌的美國光刻機(jī)廠商打得節(jié)節(jié)敗退。

　　與當(dāng)時野蠻生長的日本光刻機(jī)廠商相比，新生的ASML簡直不足一提。這家新公司的最初員工總共只有47人，都是從飛利浦的Natlab“優(yōu)化”而來的，本來就沒什么斗志。他們的辦公室被安排在飛利浦大廈前的簡易木棚房內(nèi)，可謂一番破敗景象。

　　如何才能讓這個新公司實(shí)現(xiàn)破局呢?德爾·普拉多認(rèn)為，最重要的是要找一個靠譜的CEO。那么，誰才能勝任，并且愿意出任這個職位呢?獵頭向他推薦了賈特·斯密特(GjaltSmit)。

　　斯密特是一位充滿激情、熱愛自由的人物。他是磁流體工程學(xué)碩士和天體物理博士，并曾在歐洲航天局工作。對于飛利浦來說，他其實(shí)不算新人。因?yàn)樵?969年時，他曾加入這家公司，但不久后，就因受不了公司的官僚作風(fēng)而辭職離開。此時，他的職位是美國電話電報公司駐荷蘭的銷售負(fù)責(zé)人。在過去的四年中，他的工作十分出色，幫助公司取得了政府的巨額訂單。當(dāng)?shù)聽?middot;普拉多見到斯密特后，馬上就被斯密特表現(xiàn)出的商業(yè)直覺所吸引，認(rèn)為他就是自己要找的人。倒是斯密特在聽說飛利浦占據(jù)ASML的一半股份后，表示出了猶豫。他對德爾·普拉多說，他欽佩飛利浦的技術(shù)，但在商業(yè)和營銷上，那里是一團(tuán)糟。不過，德爾·普拉多早已認(rèn)準(zhǔn)了斯密特就是對的人，他很快說服飛利浦方面，讓斯密特出任ASML的CEO，而斯密特在一番推辭之后也最終接受了這個職位。

　　怎么才能讓ASML迅速振作起來呢?斯密特認(rèn)為，最重要的突破口是要盡快找到客戶。為了尋找客戶，他于1984年5月底來到了美國加州圣馬特奧參加西部半導(dǎo)體展覽會(SEMICONWest)，并拜訪了多家芯片巨頭。拜訪的結(jié)果讓他沮喪。幾乎所有的芯片巨頭都表示，他們在選擇光刻機(jī)供應(yīng)商時會非常在乎對方的銷售量。原因很簡單：對于使用者而言，光刻機(jī)的售后維修和保養(yǎng)是十分重要的，而只有那些銷售量達(dá)到一定規(guī)模的光刻機(jī)廠商才有可能負(fù)擔(dān)起專業(yè)的售后團(tuán)隊(duì)——事實(shí)上，日本光刻機(jī)廠商之所以可以在短時間內(nèi)搶到巨大的市場份額，就是因?yàn)樗鼈冇袠O為優(yōu)秀的售后服務(wù)。然而，這一切對仍處在一窮二白階段的ASML來說，顯然是難以企及的。

　　不過，通過和芯片巨頭們的交談，他也發(fā)現(xiàn)了一個重要的信息：當(dāng)時，芯片已經(jīng)從大規(guī)模集成電路(LSI)發(fā)展到了超大規(guī)模集成電路(VLSI)，芯片線路將縮小到1微米以下。如果按照摩爾定律，那么在兩年之后，芯片的制造就要求能夠?qū)崿F(xiàn)0.7微米以下的成像，但包括尼康、佳能、CGA在內(nèi)的所有光刻機(jī)當(dāng)時都還不能達(dá)到這一精度。

　　斯密特認(rèn)識到，如果ASML可以彎道超車，率先實(shí)現(xiàn)這種新光刻機(jī)的生產(chǎn)，就可以成功在市場上站住腳。根據(jù)ASML工程師們的估計(jì)，想要在兩年內(nèi)開發(fā)這樣一個新光刻機(jī)，投入的成本大約需要1億美元，在他們看來，ASML的董事會顯然不會批準(zhǔn)這么大的一筆投入。這時，斯密特的銷售經(jīng)驗(yàn)就發(fā)揮了作用。憑借著他的三寸不爛之舌，董事會竟十分意外地同意了這個方案，并且讓飛利浦和ASM先各拿出150萬美元來作為第一筆資金。

　　得到了董事會的支持之后，斯密特馬上啟動了計(jì)劃。他預(yù)先將新產(chǎn)品的名字定為PAS2500，并計(jì)劃在1986年的西部半導(dǎo)體展覽會上展示新的機(jī)器。

　　在斯密特的帶領(lǐng)之下，原本一團(tuán)散沙的ASML團(tuán)隊(duì)終于重新燃起了斗志。不過，這時候，市場的情況出現(xiàn)了變化。隨著經(jīng)濟(jì)的衰退，芯片制造商們在購買光刻機(jī)時變得越來越謹(jǐn)慎。這讓斯密特認(rèn)識到，如果完全把寶押在兩年后的PAS2500上，ASML可能早就倒閉了。為了提早打開局面，他們必須先拿出一款過渡性的產(chǎn)品。

　　在ASML工程師夜以繼日的努力之下，過渡性質(zhì)的PAS2400僅用了半年就生產(chǎn)了出來。相對于當(dāng)時市面上主流光刻機(jī)適用的液壓機(jī)臺，PAS2400采用了Natlab的電動機(jī)臺，從而可以讓光刻過程中的調(diào)節(jié)更加準(zhǔn)確。

　　1985年，斯密特帶著PAS2400來到了西部半導(dǎo)體展覽會進(jìn)行展示。在展會上，PAS2400的表現(xiàn)非常出色，整個展會期間，一直正常運(yùn)作。相比之下，其他光刻機(jī)廠商演示的產(chǎn)品卻經(jīng)常出現(xiàn)各種問題。但盡管如此，并沒有任何訂單在會上達(dá)成。

　　進(jìn)入1986年，ASML的命運(yùn)似乎終于迎來了拐點(diǎn)。當(dāng)年年初，它終于迎來了自己的第一個客戶——一家叫MMI的小型芯片制造商，它購買了幾臺PAS2400。這樣，ASML終于實(shí)現(xiàn)了銷售上的零的突破。

　　當(dāng)年5月，PAS2500也終于開發(fā)完成。當(dāng)斯密特帶著PAS2500來到西部半導(dǎo)體展覽會上時，這款新產(chǎn)品馬上吸引了人們的注意。賽普拉斯(Cy-press)公司的CEO在看過PAS2500后，對其性能表示非常滿意，并表示出了購買意向。不過，他的條件是要求ASML買一些自己公司的股票，以確保雙方的利益綁定。這樣，如果ASML的光刻機(jī)出了問題，它自己也會受到損失。按照公司的規(guī)定，這有些困難。但對于變通的斯密特來說，這并不是問題，他指示公司的CFO很快向NMB銀行貸款解決了股份購買的資金。

　　斯密特還想要更多。此前，AMD的創(chuàng)始人杰瑞·桑德斯(JerrySanders)曾抱怨美國產(chǎn)的光刻機(jī)質(zhì)量太差，因而不得不購買日本的產(chǎn)品。斯密特知道此事后，立馬讓人在報紙上登廣告向桑德斯“表白”說：“我們聽見了你的話，杰瑞。”在1986年的西部半導(dǎo)體展覽會上，斯密特又親自帶著資料找到了桑德斯，向其兜售PAS2500。桑德斯對PAS2500非常感興趣，但在最后一刻決定沒有購買，原因是行業(yè)不好，AMD也缺錢。

　　戲劇性的是，在一年之后，一切又峰回路轉(zhuǎn)，AMD主動找到了ASML要求購買光刻機(jī)。原因很離奇：AMD收購了MMI，在盤點(diǎn)其固定資產(chǎn)時，發(fā)現(xiàn)MMI購買的其他品牌光刻機(jī)已經(jīng)不能再使用，而那幾臺PAS2400卻依然正常工作。就這樣，ASML終于靠自己過硬的質(zhì)量贏得了AMD。

　　不過，當(dāng)ASML正在向好的方向轉(zhuǎn)變時，斯密特的地位卻變得岌岌可危。盡管已經(jīng)獲得了一部分訂單，但由于前期的巨量投入，ASML虧損嚴(yán)重，這讓兩家母公司不堪重負(fù)，就連德爾·普拉多也開始抱怨ASML的無止境燒錢。就在這個時候，德國的LeyboldHeraeus公司向斯密特拋出了橄欖枝，于是他就很識趣地從ASML主動辭職了。

　　從歷史的角度看，斯密特是ASML歷史上繞不過去的一個角色。正是他帶領(lǐng)ASML走過了最困難的時光，也是他為ASML注入了精益求精、用技術(shù)優(yōu)勢來占領(lǐng)市場的公司精神。

　　逆天轉(zhuǎn)運(yùn)

　　1988年春季，ASML已經(jīng)發(fā)不出工資，最終靠飛利浦投入的130萬美元才勉強(qiáng)度過了難關(guān)。更為糟糕的是，ASM也被ASML的無止境燒錢拖垮了。為了避免公司破產(chǎn)，ASM不得不從ASML撤資，其在ASML中的股份與債務(wù)由飛利浦繼承。

　　就在ASML幾乎走到山窮水盡的時候，一筆大單卻意外地從天而降了：剛成立不久的臺積電要購買17臺新的PAS2500。坦白說，這筆訂單多少有些關(guān)系性質(zhì)。臺積電成立時，飛利浦曾通過技術(shù)入股的方式獲得了其27.5%的股份，因而從某種意義上講，臺積電和ASML有“兄弟”關(guān)系——不過，這種關(guān)系也有壞處，因?yàn)樗诤艽蟪潭壬鲜`了ASML和臺積電的談判空間。1988年底，當(dāng)臺積電的新生產(chǎn)線快要布置完畢時，意外遭遇了一場大火，大批原先向ASML訂購的PAS2500由此受損。因此，臺積電發(fā)來了新機(jī)器的訂單。然而，很多在這場火災(zāi)中受損的機(jī)器其實(shí)被破壞程度非常小，因而ASML實(shí)際上是回收了多數(shù)機(jī)器，并憑空多了一大筆訂單。由于有了這筆訂單，ASML在光刻機(jī)市場上的份額增加到了15%。

　　但ASML先前傾注了巨大心血的PAS2500并沒有如預(yù)期的那樣受市場歡迎。到1989年年中，ASML的市場份額重新跌回了6%，在主要光刻機(jī)廠商中位列倒數(shù)第二。而這樣的原因，很大程度上是隨著芯片需求的增加，芯片制造商需要加工的晶圓規(guī)格已經(jīng)從6英寸增加到了8英寸，但包括PAS2500在內(nèi)的所有型號ASML光刻機(jī)還不能加工8英寸的晶圓。在這樣的情況下，要實(shí)現(xiàn)根本破局，就必須盡快搞出新產(chǎn)品。

　　這個艱巨的任務(wù)落到了范登布林克——也就是本文開始提到的那位即將辭任的首席技術(shù)官身上。作為新機(jī)器的架構(gòu)設(shè)計(jì)師，他被命令要在三個月內(nèi)拿出新機(jī)器的方案。臨危受命的他為了趕時間，干脆在公司對面的會計(jì)師事務(wù)所找了一間安靜的房間，在里面夜以繼日地進(jìn)行工作，終于趕在期限拿出了新機(jī)器PAS5500的方案。

　　和市場上流行的所有光刻機(jī)都不同，PAS5500是一臺模塊化的光刻機(jī)，它的組件可以更換。由于光刻機(jī)的使用損耗非常大，所以在過去的整體架構(gòu)下，芯片廠商經(jīng)常會因一個零件的損壞而更換一整臺光刻機(jī)，而PAS5500的設(shè)計(jì)顯然可以解決這個問題。

　　雖然PAS5500的設(shè)計(jì)很快完成了，但第一臺機(jī)器的交貨卻是1991年的事了。在這中間，ASML處理了大量供應(yīng)鏈方面的問題。第一臺機(jī)器的買家是IBM，這時它已經(jīng)是全球最大的半導(dǎo)體制造商，ASML的銷售團(tuán)隊(duì)經(jīng)過了很大的努力，才敲開了它的大門。事實(shí)證明，當(dāng)成功地把好的產(chǎn)品賣給這樣的買家時，ASML的轉(zhuǎn)機(jī)就真的來了。

　　1992年，ASML的營收已經(jīng)從前一年的8100萬美元上升到了1.19億美元，雖然由于前期研發(fā)的巨量投入，總體上依然是虧損，但幅度已經(jīng)大大收窄。從1993年開始，ASML的收入就出現(xiàn)了飛速增長，利潤也開始轉(zhuǎn)正。

　　1995年，ASML成功在納斯達(dá)克上市。到此為止，這家一度瀕臨破產(chǎn)的公司已經(jīng)成長為真正的光刻機(jī)巨頭了。

　　光刻之王的加冕

　　那么，ASML又是如何最終超越尼康、佳能等日本的光刻巨頭，最終加冕為光刻之王的呢?這其實(shí)多少有一點(diǎn)偶然的成分。

　　在光刻機(jī)行業(yè)中，有一個重要的“瑞利法則”(RayleighCriterion)：光刻機(jī)可以處理的臨界尺寸與使用光源的波長成正比，與數(shù)值孔徑成反比。隨著芯片行業(yè)的發(fā)展，制造商們需要處理的電路尺寸越來越小，因而對光源的波長要求也就越來越高。

　　從上世紀(jì)末開始，光源的波長一直被卡在了193納米。那么，怎么才能獲得更短波長的光源呢?當(dāng)時，臺積電的林本堅(jiān)提出了一個方案，將晶圓的光刻膠上增加1毫米厚的水，從而將193納米的光折射成134納米的光。基于這一原理，他提出了浸入式光刻機(jī)的構(gòu)思。由于臺積電和ASML的“親緣”關(guān)系，以及過去的長期合作，所以在這個構(gòu)思提出后，機(jī)器的制造工作就自然交給了ASML。

　　雖然浸入式光刻機(jī)的構(gòu)思非常巧妙，但從工程角度看，它并不難完成。ASML很快就按照設(shè)計(jì)制造出了134納米波長光源的浸入式光刻機(jī)，并憑借這臺設(shè)備一舉擊敗了尼康。盡管幾乎同時，尼康經(jīng)過研發(fā)，也突破了193納米的關(guān)口，開發(fā)出了157納米波長光源的光刻機(jī)，但市場是殘酷的。包括IBM、英特爾在內(nèi)的很多大客戶拋棄尼康，轉(zhuǎn)投ASML。

　　但ASML并沒有滿足。為了鞏固地位，它在開發(fā)浸入式光刻機(jī)的同時，就已經(jīng)向極紫外光源，也就是EUV發(fā)起了挑戰(zhàn)。在這個階段，ASML的運(yùn)氣可謂爆棚。當(dāng)時，美國是最熱心EUV研發(fā)的國家，以英特爾為代表的一些企業(yè)成立了一個EUV聯(lián)盟，很多與之相關(guān)的技術(shù)和專利來自于這個聯(lián)盟。但由于美國和日本之間貿(mào)易關(guān)系的惡化，所以日本企業(yè)被排除在了這個聯(lián)盟之外。相比之下，ASML雖然也是外國公司，但考慮到其人畜無害的形象，所以被接納到了這個聯(lián)盟當(dāng)中。

　　ASML在這個聯(lián)盟中獲得了很多有用的信息，并很快摸索出了一種新的EUV產(chǎn)生方法：用激光轟擊錫珠，讓其化為等離子態(tài)，從而產(chǎn)生EUV。基于這個方法，ASML于2010年推出了第一臺EUV樣機(jī)。

　　不過，將樣機(jī)變?yōu)榭梢凿N售的商品還需要很多投入，預(yù)期的投入可能達(dá)到每年10億歐元，以ASML的財力并沒有能力獨(dú)自完成這一切。為了解決這個問題，它邀請了英特爾、三星和臺積電入股共同研發(fā)。終于，在2013年，量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)NEX:3300B面世了——也就在這一年，溫寧克和范登布林克接過了公司的領(lǐng)導(dǎo)權(quán)。此后，在這兩位聯(lián)席總裁的領(lǐng)導(dǎo)下，ASML繼續(xù)高歌猛進(jìn)，于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機(jī)的制程(即最小的電路柵格間距離)從7納米推到了5納米。而由此，ASML的光刻霸主地位也最終確定。